ヒーターの活用シーン

UTILIZATION

当社のヒーターは、主に半導体製造装置の各工程にて使われております。
その活用シーンの一部をご紹介致します。
工程の目的・精度により、ヒーターに求められるスペックも変わります。

半導体のベースとなる単結晶棒（インゴット）をダイヤモンドブレードで切断し、ウェーハをつくります。

切り出したウェーハを洗浄します。ウェーハに汚れがあると、半導体としての回路に不具合が生じていまいます。

洗浄してきれいになったウェーハの上に、絶縁体としての役割を果たす絶縁膜や導電膜を成膜します。

拡散炉は高温雰囲気で特殊ガス・蒸気を反応させ、ウェハーに酸化膜をつける工程です。当社の製品は、ガスや蒸気を均一に加温させ、工程歩留まりの上昇を実現します。

感光液を塗布してレジスト膜をつくり、遠赤外線照射によってレジスト膜を変形し、回路パターンを転写します。

半導体の電気特性を決めるためのイオンを注入して不純物を打ち込みます。シリコンが出ている部分が半導体になります。

レジストパターンの下にある酸化膜以外の不要なレジストを取り除いていきます。

枚葉成膜・エッチング工程では、チャンバー内でウェハーを熱処理するステージヒータにて厳しい温度管理が必要です。当社の製品は、熱移動に関するさまざまな条件を考慮し、高精度の温度制御を実現します。

層ごとを絶縁膜で覆います。次の加工をしやすくするためにウェーハの表面を研磨してパターンの凸凹を平坦にします。

半導体製造工程では、特殊ガスの供給・排気に多くの配管を使用します。温度が安定しないと固化して配管詰まりを起こしたり、ウェハーの歩留まりが下がってしまいます。当社の製品は、精密な作り込みと制御方法の提案により、安全性とエコ性の高い配管加熱を実現します。

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